Libri e Riviste

Vacuum deposition of thin films / L. Holland ; with a foreword by Professor S. Tolansky

Responsabilità principale Holland, L.

Persona

Responsabilità secondaria Tolansky, Samuel (Autore introduzione, etc.)

Persona
Ruolo: Autore introduzione, etc.
Periodo: (1907–1973)

PubblicazioneLondon : Chapman & Hall, 1970

Descrizione fisicaxix, 541 p. : ill. ; 23 cm

Codici internazionaliSBN 412 05380 2

Classificazione Dewey: 530 Fisica

Altra : TS695 .H6 Manufactures––Metal Manufactures, Metalworking

Paese di pubblicazioneRegno Unito

LinguaInglese (Il documento è nella lingua originale dell'opera)

#	Collocazione	Prestabile	Disponibilità
ARGE1 (GE) - ICB_GE	UTENZA: M.I.4/1	Si	Biblioteca

IT/ItRC/00006505Blindata / PubblicabileCreata da GECA System Admin, 10/10/2016

Frontespizio/Indice

Monografia, Moderno