Libri e Riviste

Vacuum deposition of thin films / L. Holland ; with a foreword by Professor S. Tolansky

Responsabilità principale Holland, L.

Persona

Responsabilità secondaria Tolansky, Samuel (Autore introduzione, etc.)

Persona
Ruolo: Autore introduzione, etc.
Periodo: (1907–1973)

PubblicazioneLondon : Chapman and Hall, 1970

Descrizione fisicaxix, 555 p., [12] carte di tav., 1 carta di tav. ripiegata : ill. ; 23 cm

Codici internazionaliSBN 412 053802

Classificazione Dewey: 620.16 Meccanica e materiali dell'ingegneria – Metalli

Altra : TS695.H6 Manufactures––Metal Manufactures, Metalworking

Paese di pubblicazioneRegno Unito

LinguaInglese (Il documento è nella lingua originale dell'opera)

#	Collocazione	Prestabile	Disponibilità
ARGE1 (GE) - ICFAM	UTENZA: H.IV.4/11	Si	Biblioteca

IT/ItRC/00008998Blindata / PubblicabileCreata da GECA System Admin, 26/10/2016

Frontespizio/Indice

Monografia, Moderno