Libri e Riviste

19. annual symposium on photomask technology : 15 – 17 September 1999, Monterey, California / Frank E. Abboud, Brian J. Grenon chairs/editors ; sponsored by BACUS, the international technical group of SPIE dedicated to the advancement of photomask technology

ResponsabilitàAbboud, Frank E.

Grenon, Brian J.

Society of photo–optical instrumentation engineers : BACUS

Fa parte della collezioneProceedings of SPIE ; 3873

PubblicazioneBellingham [Wa.] : SPIE, c1999

Descrizione fisica2 v. ; 27 cm

Codici internazionaliISBN 081943468X (print)

Classificazione Dewey: 621.381531 Elettronica – Componenti e circuiti – Circuiti stampati e circuiti per specifiche funzioni – Circuiti stampati

Paese di pubblicazioneStati Uniti d'America

LinguaInglese (Il documento è nella lingua originale dell'opera)

IT/ItRC/00060691Proveniente da import / PubblicabileCreata da GECA System Admin, 01/01/2014

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